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    產品中心

    當前位置:首頁產品中心實驗室常規儀器合肥科晶VTC-2DC2英寸500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀
    2英寸500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀

    產品簡介

    VTC-2DC2英寸500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統,系統中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。

    產品型號:VTC-2DC
    更新時間:2026-01-06
    廠商性質:經銷商
    訪問量:2116
    詳細介紹在線留言

    VTC-2DC2英寸500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀

    產品概述:

    VTC-2DC2英寸500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統,系統中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗手。

    主要參數:

    • 輸入電源:220V AC 50Hz    
    • 輸出電壓:600 VDC 
    • 輸出功率:大500W 
    • 整機功率:1000W(包括真空泵)

    濺射腔體:

    • 采用石英腔體,尺寸:166mm OD x 150mm ID x250mm H(配置直靶頭)
    • 尺寸:166mm OD x 150mm ID x290mm H(配置帶角度傾斜靶頭) 
    • 密封法蘭:直徑為165mm,采用金屬制作,密封采用O形密封圈

    濺射頭&樣品臺:

    • 濺射頭安裝靶材直徑為2英寸,同時可選配1英寸濺射頭
    • 儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺,其與濺射頭之間距離可調 
    • 樣品臺可加熱,加熱溫度RT-500℃(RT為室溫) 
    • 安裝有一可手動操作的擋板 
    • 大可制膜的直徑為:2英寸(標配2英寸,如果需要更大尺寸請與我們銷售聯系)

    真空系統:

    • 安裝有KF25真空接口 
    • 數字真空壓力表(Pa) 
    • 此系統運行需要Ar氣,并且氣瓶上安裝有減壓閥(設備中不包含) 
    • 采用機械泵< 3.8E-2 Torr(參考值,詳情請點擊) 
    • 采用渦旋分子泵< 3.8E-5 Torr(參考值,詳情請點擊) 
    • 可在本公司選購各種真空泵

    進氣:

    • 設備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶 
    • 設備前面板上裝有一氣流調節旋鈕,方便調節氣流

    靶材:

    • 靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1-5)mm(厚度) 
    • 可在本公司選購各種靶材

    薄膜測厚儀(可選):可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上

    產品外形尺寸:

    540mm L x540 mm W x1100mm H

    凈重:70 kg(不包括泵)

    質量認證:CE認證

    • 使用提示:
      有時為了達到理想的薄膜厚度,可能需要多次濺射鍍膜 
    • 為了得到的薄膜質量,必須通入高純氣體(建議> 5N) 
    • 在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈 
    • 要達到薄膜與基底良好結合,請在濺射前清潔基材表面 
    • 超聲波清洗(詳細參數點擊下面圖片):(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮氣干燥(4)真空烘箱除去水分。 
    • 等離子清洗(詳細參數點擊下面圖片):可表面粗糙化,可激活表面化學鍵,可祛除額外的污染物。 
    • 制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應用于改善金屬和合金的附著力。

    警告:

    • 注意:產品內部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機體。 
    • 氣瓶上應安裝減壓閥(設備標配不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕http://www.kjmti.com/LUEditor/themes/default/images/spacer.gif以下,以安全使用。 

    濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶

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